Solução | Temperatura do tratamento ( ºC) | Tempo de tratamento (H) | Resultados do teste |
H20 | 95 | 45 | 0.0001-0.0002 |
1/100 NHNO3 | 115 | 20 | 0.005-0.01 |
5% NaOH | 100 | 10 | 1.35 |
Item | Grau |
Bolhas | 0-0,03 mm2/100 cm3 |
Estrias | Grau A numa direcção (de acordo com a mil-G-174) |
Birefracção (strain) | 10 nm/cm e menos |
Fluorescência | Não permitido (comprimento de onda animado de 254 nm) |
Item | Unidade | Valor |
Densidade | g/cm3 | 2.201 |
Módulo de Yong | Kg/mm2 | 7280 |
Relação de Poisson | 0.17 | |
Força de compressão | Kg/mm2 | 115 |
Força de flexão | Kg/mm2 | 7.0 |
Resistência à tracção | Kg/mm2 | 5.6 |
Rigidez torcional | Kg/mm2 | 3150 |
Dureza Vickers | Kg/mm2 | 900-1030 |
Dureza Knoop | Kg/mm2 | 650-710 |
Coeficiente de expansão térmica | Cm/cmºC | 5.5 * 10-7 |
Ponto de amolecimento | ºC | 1700 |
Ponto de recozimento | ºC | 1160 |
Ponto de tensão | ºC | 1060 |
Calor específico ( 26ºC) | CAL/g. ºC | 0.176 |
Relação de condutividade térmica (26ºC) | cal/cm.sec.ºC | 2.65 * 10-3 |
Relação de condutividade térmica (100ºC) | CAL/cm.sec.ºC | 3.27 * 10-3 |
Aplicando campos: | Este produto pode ser utilizado numa grande variedade de aplicações industriais para semicondutores, óptica e todas as pesquisas físicas ou químicas relacionadas com estas aplicações: 1). Wafers para vários tipos de dispositivos, tais como TFT (LCD de transístor de película fina poli-si), SOI (silicone sobre isolador), etc. 2). Substratos fotomask para ultra-LSI e LCD. 3). Tubos, jigs e ferramentas para processos de fabrico de URSI para fornos de reatores. 4). Tubos da lâmpada de descarga elétrica. 5). Elementos ópticos, lentes, espelhos e janelas, para ultravioleta e a vácuo ultravioleta. |
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